Litografia de nanoesferas

Síntese de nanoesferas

São preparadas esferas de polistireno (PS) de diâmetros entre 150 e 800 nm.

 

Confecção de máscaras coloidais 2D

Molde auto-ordenado de  poliestireno (1 camada) preparado por spin-coating

imagem de MEV: LCME/UFSC

Membranas nanoestruturadas por litografia de nanoesferas 

Confecção de máscaras coloidais 3D

1. Máscaras coloidais multicamadas

 imagem de MEV: LCME/UFSC

2. Moldes 3D em fios de nitinol e fibras nanoestruturadas de polipirrol/DBSA

 

imagem de MEV: LCME/UFSC

Referências Bibliográficas

[1] Spada, E. R. ; da Rocha, A. S. ; Jasinski, E. F. ; Pereira, G. M. C. ; Chavero, L. N. ; Oliveira, A. B. ; Azevedo, A. ; Sartorelli, M. L. . Homogeneous growth of antidot structures electrodeposited on Si by nanosphere lithography.   J. Appl. Phys. 103, 114306 (2008). https://doi.org/10.1063/1.2937083
[2] Roux, K. C. D. ; Jasinski, E. F.;  Merib, J. ; Sartorelli, M. L.  ; Carasek, E. . Application of a robust solid-phase microextraction fiber consisting of NiTi wires coated with polypyrrole for the determination of haloanisoles in water and wine. Anal. Methods 8, p. 5503 (2016). DOI: 10.1039/c6ay00995f
[3] Jasinski, E. F.; Sartorelli, M ; Santos, I. M. ; Manso, P. R. J. ; Serpa, R. B. ; Grilo, B. L. D. . Fabricação de Cristais Coloidais em Superfícies Cilíndricas por Efeito Joule. 2016, Brasil. Patente: Privilégio de Inovação. Número do registro: BR10201600018, título: ” Fabricação de Cristais Coloidais em Superfícies Cilíndricas por Efeito Joule”, Instituição de registro: INPI – Instituto Nacional da Propriedade Industrial. Depósito: 06/01/2016.